福澤 亮太のページ

プロフィール

所属 : 東京大学大学院 工学系研究科 電気系工学専攻

研究テーマ : 静電気力顕微鏡に関する新手法の確立と微結晶材料への応用

学年 : 博士後期課程3年

職歴 : 18/10 - present 統合物質科学国際卓越大学院 (MERIT-WINGS)

役員 : 応用物理学会高専チャプター副代表

略歴 :

  • 15/3 国立富山高等専門学校 電気制御システム工学科(石田研究室)卒業
  • 17/3 国立名古屋工業大学 工学部 電気電子工学科(壬生・田中研究室)卒業
  • 19/3 東京大学大学院 工学系研究科 電気系工学専攻 修士課程(高橋研究室)修了
  • 学位論文

  • 準学士(高専): 手による擬似タッチパネル上の相対座標を用いたポインティングインターフェースの構築
  • 学士: 重金属\(\mathrm{Ir}\)をドープした\(\alpha\)-\(\mathrm{Fe_2 O_3}\)薄膜のモーリン転移に関する研究
  • 修士: 二重バイアス変調方式静電引力顕微鏡の開発とCIGS系材料への応用

    趣味: 音楽鑑賞,映画鑑賞

    好きなたべもの: お寿司

    発表リスト

    学術誌

    1. Ryota Fukuzawa and Takuji Takahashi:
      “Dual Bias Modulation Electrostatic Force Microscopy on \(\mathrm{Cu(In,Ga)Se}_2\),”
      Proceedings of 47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 47), 0394-0396 (2020).
    2. Ryota Fukuzawa and Takuji Takahashi:
      “Direct imaging method of frequency response of capacitance in dual bias modulation electrostatic force microscopy,”
      Japanese Journal of Applied Physics, \({\bf 59}\), 078001 (2020). https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ab9ae0
    3. Ryota Fukuzawa and Takuji Takahashi:
      “Development of dual bias modulation electrostatic force microscopy for variable frequency measurements of capacitance,”
      Review of Scientific Instruments, \({\bf 91}\), 023702 (2020). https://doi.org/10.1063/1.5127219

    国際会議

    1. Ryota Fukuzawa, Takashi Minemoto and Takuji Takahashi:
      “Dual Bias Modulation Electrostatic Force Microscopy on \(\mathrm{Cu(In,Ga)Se}_2\) ”,
      47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC 47), 175, online, June, (2020).
    2. R. Fukuzawa and T. Takahashi:
      "Direct imaging method of frequency response in dual bias modulation electrostatic force microscopy",
      27th International Colloquium on Scanning Probe Microscopy (ICSPM27), S6-1, Shizuoka, Japan, December (2019).
    3. Ryota Fukuzawa and Takuji, Takahashi:
      "Dual bias modulation electrostatic force microscopy for variable frequency analysis of capacitance",
      2019 NAMIS Marathon Workshop, National Tsing Hua University, Taiwan, November (2019).
    4. Ryota Fukuzawa and Takuji, Takahashi:
      "Dual Bias Modulation Method for Variable Frequency Measurements in Electrostatic Force Microscopy",
      The 21th International Scanning Probe Microscopy Conference (ISPM 2019), Louvain-la-Neuve, Belgium, May (2019).
    5. Ryota Fukuzawa and Takuji, Takahashi:
      “Variable frequency measurements of \(\partial C/\partial V\) by electrostatic force microscopy on \(\mathrm{Cu(In,Ga)(S,Se)_2}\) solar cells”,
      LIMMS-Next PV Joint Energy Workshop Tokyo, Japan, March (2019).
    6. Ryota Fukuzawa and Takuji, Takahashi:
      "High frequency \(\partial C/\partial V \) measurements by dual bias modulation EFM",
      ACSIN-14 & ICSPM26, Sendai International Center, Sendai, Japan, October (2018).
    7. Ryota Fukuzawa and Takuji, Takahashi:
      “Frequency response measurements of \(\partial C/\partial V\) by electrostatic force microscopy on \(\mathrm{Cu(In,Ga)(S,Se)_2}\) solar cells”,
      Nano and Energy mini-Workshop Tokyo, Japan, July (2018).

    国内学会

    1. 福澤亮太,梁 剣波,重川 直輝,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡による直接貼り合わせp-n接合の断面解析」
      第68回 応用物理学会春季学術講演会, 16a-Z15-3, オンライン (2021).
    2. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡による表面空乏層容量の可変周波数測定」
      日本学術振興会 ナノプローブテクノロジー第167委員会 第95回研究会 (2020). [高橋先生 依頼講演]
    3. 福澤亮太,峯元 高志,高橋琢二:
      「導電性ナノプローブ用いた静電引力測定による \(\mathrm{Cu(In,Ga)Se_2}\) 中の Cd 拡散効果の解析」
      第81回応用物理学会秋季学術講演会,9p-Z15-3, オンライン (2020).
    4. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡における可変周波数静電容量測定」
      応用物理学会KOSEN Student Chapter 第1回VR学術講演会,0-8, (オンライン) (2020).
    5. 福澤亮太,峯元 高志,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡による \(\mathrm{Cu(In,Ga)Se_2}\)上での局所的容量測定」
      第67回応用物理学会春季学術講演会,13a-A202-4, 東京 (2020).
    6. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡における可変周波数測定」
      第80回応用物理学会秋季学術講演会,18a-C310-1, 北海道 [招待講演] (2019).
    7. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調静電引力顕微鏡による周波数応答の直接画像化」
      第80回応用物理学会秋季学術講演会,18a-C310-2, 北海道 (2019).
    8. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調方式静電引力顕微鏡による空乏層容量の周波数応答測定」
      第66回応用物理学会春季学術講演会,10a-W933-6, 東京 (2019).
    9. 福澤亮太,高橋琢二:
      「二重バイアス変調方式を用いたEFMによる\(\partial C/\partial V\)の周波数応答測定」
      第79回応用物理学会秋季学術講演会,18p-143-8, 愛知 (2018).
    10. 三神和章,福澤亮太,安藤聡伸,田中雅章,壬生攻:
      「\(\mathrm{Ir}\)ドープ\(\alpha\)-\(\mathrm{Fe_2O_3}\)薄膜のメスバウアー分光法によるモーリン転移の評価」
      IEEE Magnetics Society 名古屋支部若手研究会, 愛知 (2017).
    11. 三神和章,福澤亮太,田中雅章,壬生攻:
      「重金属をドープしたヘマタイト薄膜のメスバウアー分光による磁性評価」
      第1回材料科学フロンティア研究院シンポジウム, 愛知 (2016).(ポスター)
    12. 福澤亮太, 石田文彦:
      「相対座標系を利用したハンドパネルインターフェース構築に向けた検討」
      2015年電子情報通信学会総合大会情報・システム講演論文集 1, p.144, 滋賀 (2015).
    13. 福澤亮太, 石田文彦:
      「手による擬似タッチパネル上の相対座標を用いたポインティングインターフェースの構築」
      平成26年度北陸地区学生による研究発表会講演論文集, p.159, 富山 (2015).

    受賞等

    1. 第46回(2019年春季)応用物理学会講演奨励賞
    2. ACSIN-14 & ICSPM26 Young researcher award
    3. MERITキャンプ優秀ポスター賞
  • Copyright © Copyright 2019 Takahashi Lab., Institute of Industrial Science, University of Tokyo